- HITUS
- HITUSopp. Comagenae, inter Catamanam et Nisum. Simler.
Hofmann J. Lexicon universale. 1698.
Hofmann J. Lexicon universale. 1698.
Pulverisation cathodique — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Pulvérisation cathodique (sputtering) — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Sputtering — Pulvérisation cathodique La pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de couche mince. Sommaire 1 Principe 1.1 Synthèse de films céramiques 1.2 Instabilité électrique … Wikipédia en Français
Pulvérisation cathodique — Pour les articles homonymes, voir Pulvérisation. La pulvérisation cathodique (ou sputtering) est une méthode de dépôt de couche mince. Il s agit d une technique qui autorise la synthèse de plusieurs matériaux à partir de la condensation d’une… … Wikipédia en Français
Lámina delgada — Se entiende por láminas delgadas las capas de material en el rango de fracciones de nanómetro hasta varios micrómetros de espesor. Los componentes electrónicos semiconductores y los recubrimientos ópticos son los mayores beneficiarios del… … Wikipedia Español
Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… … Wikipedia